Система электронно-лучевой литографии JBX-5500FS
JBX-5500FS – компактная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для отработки технологий и малосерийного производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств. Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 101,6 мм (4″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 12 МГц и динамическим диапазоном 18 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.
Для удобства и быстроты работы, в JBX-5500FS реализовано 2 режима литографии: высокоскоростной (4-линзовый) и сверхвысокоразрешающий (5-тилинзовый).
Основные технические характеристики:
| Электронная пушка | Шоттки типа |
| Ускоряющее напряжение | 25кВ / 50кВ |
| Ток пучка | 30пА – 20нА |
| Форма пучка | круглое пятно |
| Минимальная ширина линии | не более 10нм |
| Минимальный диаметр пятна | не более 6 нм |
| Максимальный диаметр подложки | 102,6 мм (4 дюйма) |
| Погрешность сшивки рабочих областей | не более 40нм |
| Максимальный размер области экспозиции | 2мм * 2мм (4-линзовый режим, 25кВ) |
| 0,2мм * 0,2мм (5-линзовый режим, 25кВ) |