Система электронно-лучевой литографии JBX-6300FS

JJBX-6300FSBX-6300FS – это промышленная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для  производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.  Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 203,2 мм (8″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 25 МГц и динамическим диапазоном 19 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.

Для удобства и быстроты работы, в JBX-6300FS реализовано 2 режима литографии: высокоскоростной (4-линзовый) и нанолитографический (5-тилинзовый).

Основные технические характеристики:

Электронная пушка Шоттки типа
Ускоряющее напряжение 25кВ / 50кВ / 100кВ
Ток пучка 30пА – 20нА
Форма пучка круглое пятно
Минимальная ширина линии не более 8нм
Минимальный диаметр пятна не более 2 нм
Максимальный диаметр подложки 203,2 мм (8 дюймов)
Погрешность сшивки рабочих областей не более 20нм на поле зрения 62,5 мкм
Максимальный размер области экспозиции 2мм * 2мм (4-линзовый режим, 25кВ)
0,25мм * 0,25мм (5-линзовый режим, 25кВ)