Система электронно-лучевой литографии JBX-6300FS
J
BX-6300FS – это промышленная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств. Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 203,2 мм (8″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 25 МГц и динамическим диапазоном 19 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.
Для удобства и быстроты работы, в JBX-6300FS реализовано 2 режима литографии: высокоскоростной (4-линзовый) и нанолитографический (5-тилинзовый).
Основные технические характеристики:
| Электронная пушка | Шоттки типа |
| Ускоряющее напряжение | 25кВ / 50кВ / 100кВ |
| Ток пучка | 30пА – 20нА |
| Форма пучка | круглое пятно |
| Минимальная ширина линии | не более 8нм |
| Минимальный диаметр пятна | не более 2 нм |
| Максимальный диаметр подложки | 203,2 мм (8 дюймов) |
| Погрешность сшивки рабочих областей | не более 20нм на поле зрения 62,5 мкм |
| Максимальный размер области экспозиции | 2мм * 2мм (4-линзовый режим, 25кВ) |
| 0,25мм * 0,25мм (5-линзовый режим, 25кВ) |