В связи с  ростом производства микросхем с высокими степенями интеграции, растет потребность мировой полупроводниковой промышленности в высокоточных высокопроизводительных системах производства фотошаблонов. Компания JEOL, являеющаяся лидером по производству промышленных систем электронно-лучевой литографии, следуя новейшим мировым тенденциям, выпустила новую модель – JBX-3050MV.

JBX-3050MV обладает высокими однородностью и плотностью пучка (до 40А/см2),  возможностью изменять форму пучка, проводить векторное сканирование. Данная система вобрала все лучшие качества предыдущих моделей, включая лидера продаж десятилетия – JBX-3040MV.  Она отличается высокой надежностью и производительностью, и, благодаря этому, за столь короткий период прекрасно себя зарекомендовала на ведущих предприятиях мира.

Основные технические характеристики: