В современной технологии исследования и обработки материалов все большее внимание уделяется квантовым методам, предполагающей использование для целей модификации, резки или формирования поверхностей заданного рельефа управляемых пучков частиц.

В настоящее время наибольшую популярность получили методы основанные на использовании сфокусированных потоков ионов. Чаще всего для этой цели используются ионы галлия, которые будучи сфокусированными в тонкий пучок, в ряде случаев позволяют, помимо модификации поверхности, еще и визуализировать наноразмерную морфологию даже лучше, чем традиционная электронная микроскопия. Совмещение в одном приборе как ионного, так и электронного источников делают этот прибор универсальным исследовательским и технологическим инструментом, хотя и имеющим намного более высокую стоимость, чем обычный растровый электронный или ионный микроскоп.

Таким образом, сфокусированные пучки ионов в настоящее время используются для:

• визуализации наноразмерных поверхностей
• ионной резки, с целью исследования внутренней структуры образца, исследовании внутренних дефектов
• высокоточная ионная обработка, включая ионную полировку, при изготовлении деталей микромеханизмов, оптики высших классов точности (точности долей длины волны), в микро- и наноэлектронике и др.
• для изготовления элементов различных прецизионных систем с заданной микро- и нанотопографией рельефа по-верхности
• для пробоподготовки в просвечивающей электронной микроскопии атомного разрешения
• и др.

Существую различные типы коммерческих систем, использующих сфокусированный ионный пучок, имеющие разные названия у разных производителей («FIB», «dualbeam», «crossbeam», «multibeam», и др.). JEOL является одним из пионеров в этой области, реализующим данную технологию в своих приборах более 30 лет.

Линейка продукции фирмы JEOL включает три основных типа исследовательских систем со сфокусированным ионным пучком:

• ионный микроскоп и система пробоподготовки JEOL JEM-9320FIB  >>
• двухлучевую (ионно-электронную) систему с термополевым источником электронов Шоттки JEOL JIB-4600F >>
• двухлучевую (ионно-электронную) систему с термоэмиссионным источником электронов LaB6 JEOL JIB-4500 >>

Помимо исследовательских систем, JEOL также выпускает промышленные установки с высокоэнергетичными сфокусированными ионными пучками с энергиями до 100 кВ.