Изучению образцов на наноуровне способствует наличие высокоточного и высокостабильного 5-осевого гониометрического столика образцов с пьезоподвижкой, которая позволяет очень плавно и точно перемещать образец на единицы нанометров при исследованиях с большими увеличениями (500000 крат и более), а также компенсировать его дрейф.
В программу управления ПЭМ JEM-2100F легко интегрируются аналитические приставки: энергодисперсионный спектрометр (ЭДС), спектрометр характеристических потерь энергии электронов (СХПЭЭ), энергетический фильтр, различные ПЗС-камеры как бокового, так и нижнего крепления, а также многие другие приставки, позволяющие проводить уникальные исследования.
| Тип полюсного наконечника | Сверхвысокого разрешения | Высокого разрешения | Высокий наклон образца | Для работы с замороженными образцами | Высокого контраста |
| Разрешение | |||||
|---|---|---|---|---|---|
| по точкам, нм | 0,19 | 0,23 | 0,25 | 0,27 | 0,31 |
| по решетке, нм | 0,1 | 0,14 | |||
| Ускоряющее напряжение | |||||
| Предустановленные значения | 80, 100, 120, 160, 200 кВ | ||||
| Минимальный шаг изменения напряжения | 50 В | ||||
| Источник электронов | |||||
| Тип эмиттера | ZrO/W (100) катод Шоттки | ||||
| Яркость | не менее 4×108 A/(см²*стерадиан) | ||||
| Степень вакуума в пушке | 10-8 Па | ||||
| Ток пучка | 0,5 нА при диаметре пучка 1 нм | ||||
| Стабильность параметров электронно-оптической колонны | |||||
| ускоряющего напряжения | 10-6/мин. | ||||
| тока объективной линзы | 10-6/мин. | ||||
| Параметры объективной линзы | |||||
| Фокусное расстояние | 1,9 мм | 2,3 мм | 2,7 мм | 2,8 мм | 3,9 мм |
| Коэффициент сферических аберраций | 0,5 мм | 1,0 мм; | 1,4 мм | 2,0 мм | 3,3 мм |
| Коэффициент хроматических аберраций | 1,1 мм | 1,4 мм | 1,8 мм | 2,1 мм | 3,0 мм |
| Минимальный шаг фокуса | 1,0 нм | 1,4 нм | 1,8 нм | 2,0 нм | 5,2 нм |
| Диаметр фокусного пятна на образце | |||||
| В режиме ПЭМ | 2-5 нм | 7 – 30 нм | |||
| В режиме ПРЭМ/ЭДС | 0,5 – 25 нм, угол схождения пучка зависит от α селектора |
1,0 – 25 нм, угол схождения пучка зависит от α селектора |
1,5 – 35 нм, угол схождения пучка зависит от α селектора |
2,0 – 45 нм, угол схождения пучка зависит от α селектора |
10 – 500 нм |
| В режиме нормальной дифракции | |||||
| В режиме дифракции в сходящемся пучке | |||||
| Параметры режима дифракции в сходящемся пучке | |||||
| Угол схождения（2α） | 1,5 – 20 мрад. или более | - | - | ||
| Угол сбора | ±10° | - | - | ||
| Диапазоны увеличений | |||||
| В режиме высоких увеличений | х 2’000 – 1’500’000 | х 1’500 – 1’200’000 | х 1’200 – 1’000’000 | х 1’000 – 800’000 | |
| В режиме низких увеличений | х 50 – 6’000 | х 50 – 2’000 | |||
| В режиме дифракции | х 8’000 – 800’000 | х 6’000 – 600’000 | х 5’000 – 600’000 | х 5’000 – 400’000 | |
| Длина камеры | |||||
| В режиме SA DIFF, мм | 80 – 2’000 | 100 – 2’500 | 150 – 3’000 | ||
| В режиме HD DIFF, м | 4 – 80 | ||||
| В режиме HR DIFF, мм | 333 | ||||
| Диапазоны перемещений и углов наклона образов | |||||
| Углы наклона по осям X / Y (при двойном наклоне) | ±25°/ ±25° | ±35°/ ±30° | ±42°/ ±30° | ±15°/ ±10° | ±38°/ ±30° |
| Диапазоны перемещений по осям X / Y, мм | ±1 | ||||
| Диапазоны перемещений по оси Z, мм | ±0,1 | ±0,2 | |||
