Телефон:
+7-495-223-4000
Факс:
+7-495-223-4001
E-mail:
main@tokyo-boeki.ru

Системы атомно-слоевого осаждения ALD

Свяжитесь со специалистом удобным для Вас способом:
(495) 223-40-00 | main@tokyo-boeki.ru

Система атомно-слоевого осаждения EALD-4 позволяет контролировать толщину осаждаемой пленки на уровне одного атомного слоя и позволяет получать многослойные тонкие пленки с высокой однородностью.

Особенности:
1. С помощью улучшенного метод верхнего потока можно легко добиться качественное равномерного осаждения.
2. Осаждаемые материалы доставляются в камеру осаждения через независимую трубку и контроллер расхода массы. Таким образом, в линии подачи осаждаемого материала меньше загрязнений.
3. Улучшено распределение температуры и равномерность толщины за счет наличия двух секции в камере осаждения.
4. Система может быть расширена в зависимости от исследовательских целей и задач.

Опции:
Шлюзовая камера загрузки, герметичная перчаточная камера, откачка турбомолекулярным насосом, генератор озона и т.д.

Спецификация:
1) Размер подложки: Ø100мм (4 дюйма).
2) Распределение по толщине пленки: ±2% по всему диаметру Ø100мм для покрытия Al2O3 толщиной 30 нм на кремниевой пластине.
3) Предельное вакуумное давление: 1 Пa (сухой насос).
4) Температура нагрева: 400oC (с использованием нагревателя из нихромовой проволоки).
5) Прекурсоры: 4 стандартные системы (нагрев до 200oC).
6) Система клапанов: мембранный клапан.
7) Размеры: 600 мм (Ш) x800 мм (Г) x1400 мм (В).

Система атомно-слоевого осаждения c усиленной плазмой EALD-P-4 позволяет контролировать толщину осаждаемой пленки на уровне одного атомного слоя и позволяет получать многослойные тонкие пленки с высокой однородностью.
Наверх