Телефон:
+7-495-223-4000
Факс:
+7-495-223-4001
E-mail:
main@tokyo-boeki.ru

Системы химического осаждение из газовой фазы (CVD)

Свяжитесь со специалистом удобным для Вас способом:
(495) 223-40-00 | main@tokyo-boeki.ru

Японская компания EIKO Co. представляет уникальные системы CVD для получения эпитаксиальных слоев различных полупроводников на кремниевых подложках (например SiGe, SiGe:C) путём осаждения из паро-газовой фазы.
Наиболее часто данные CVD системы применяется в технологии кремниевых, германиевых и арсенид-галлиевых полупроводниковых приборов и интегральных схем, а также позволяют выращивать пленки SiC с примесью азота.

Базовая конфигурацию CVD системы включает:

1) Ростовая камера.
2) Шлюзовая камера.
3) Система сверхвысоковакуумного транспорта подложек.
4) Система управления и контроля технологическим процессом с помощью специализированного программного обеспечения.
5) Система управления и подачи газами.

Наверх