Телефон:
+7-495-223-4000
Факс:
+7-495-223-4001
E-mail:
main@tokyo-boeki.ru

Системы электронно-лучевого и магнетронного осаждения (EB, MS)

Свяжитесь со специалистом удобным для Вас способом:
(495) 223-40-00 | main@tokyo-boeki.ru

Компания EIKO Co. предлагает высоковакуумные установки электронно-лучевого и магнетронного осаждения серии ES, которые хорошо себя зарекомендовали для решения научно-исследовательских задач и идеально подходят для получения тонких пленок для электронных устройств и создания материалов на основе высокотемпературных сверхпроводников.
Основные особенности:

1. Оснащение вращающим держателем с одновременным нагревом подложки.
Скорость вращения подложки регулируется на LCD панели управления. Подложку можно нагревать до 800°C при любом вакуумном давлении с помощью лапового нагревателя. Охлаждение подложки – опция.

2. Распыление от 3 до 10 мишеней.
EIKO Co. разработала уникальную технологию позиционирования до 10 мишеней и позволяет распылять мишень с помощь метода DC и RF. Замена мишени выполняется с помощью программного обеспечения на LCD панели управления.


ПО управление на 5 мишеней

Общий вид механизма позиционирования мишеней

3. Непрерывная подстройка расстояние между мишенью и подложкой.

Расстояние между мишенями и подложкой легко изменяется и подстраивается на расстоянии от 100 мм до 150 мм с шагом 10 мм и выставляется на LCD панели управления.


ПО управление расстоянием между мишенью и подложкой

4. Большой выбор аксессуары и опции.


RF и DC источники распыления

Радиальный источник

ПО для автоматического многослойного осаждения

Под специализированные задачи компания EIKO Co. предлагает системы с использованием подложек на 6 и 8 дюймов:


Модель ES-610

Модель ES-830
Описание
ES-250B

ES-350L

ES-380WL

ES-480L
Камера Размеры 450х350 Д х В, мм 530 х 450 Д х В, мм 625 х 450 Д х В, мм 950 х 500 Д х В, мм
Предельное давление 10-5 Па
Держатель подложки Размер подложки 100 мм квадратная 3" в диаметре 4" в диаметре
Максимальная температура 800°C (ламповый нагреватель)
Ось Z - 50мм варьируемое
Вращение в плоскости 10 и 15 рад./мин. (2-х шаговое переключение)
Мишень Количество мишеней 5 8
Размер мишени 2" в диаметре 3" в диаметре 4" в диаметре
Замена мишени С помощью специализированного устройства
Источник распыления RF 300 Вт 500 Вт
Подстройка Ручной Автоматический
DC 1 кВт
Подача газа Контроллер расхода газа 50 до 100 см3/мин (максимально 4 линии)
Откачка системы ТМН 345 л/с 850 л/с 1400 л/с
Роторный насос 162 л/мин 250 л/мин 345 л/мин
Камера загрузки образцов Предельное давление Опция 10-4 Па
  Количество загружаемых подложек 2 шт. 5 шт.,
Моторизированное
  ТМН 55 л/с 345 л/с
  Роторный насос 90 л/мин 162 л/мин
  Загрузка подложки Загрузочный шток (магнитный или реечный тип подачи)
Опция Сверхвысокий вакуум Сверхвысокий вакуум достигается за счет дополнительной внешней системы отжига камеры (обшивочного типа)
Наверх