Системы молекулярно-лучевой эпитаксии (MBE)

Свяжитесь со специалистом удобным для Вас способом:
(495) 223-40-00 | main@tokyo-boeki.ru

Японская компания EIKO Co., широко известная своими уникальными высоковакуумными установками для получения тонких пленок, гетерогенных структур и покрытий, представляет наиболее полную линейку установок молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) серии EW и EV. Благодаря заложенным дизайнерским особенностям установок МЛЭ, серия EW и EV эффективно обеспечивает проведение фундаментальных и прикладных научных исследований, а также позволяют организовать мелкосерийное производство сложных эпитаксиальных структур, сэндвич-слоев, наногетероструктур А3В5/А2В6 и A3N таких, как InAlGaAs/GaAs, InAlGaN/GaN на подложках Si, SiC, Al2O3 и др. диаметром до 6-ти дюймов.

Описание
Серия EW
Серия EV
Опции

Базовая конфигурацию установок МЛЭ серии EW и EV включает:
1) Ростовая камера.
2) Камера подготовки.
3) Шлюзовая камера
4) Система сверхвысоковакуумного переноса подложек.
5) Система управления и контроля технологическим процессом с помощью специализированного программного обеспечения.

Температурное распределение на манипуляторе

ПО управления вакуумной системы

Системы молекулярно-лучевой эпитаксии с водяным охлаждением

Описание		EW-3	EW-10	EW-100	EW-500
Ростовая камера	Размеры	305х250 Д х В, мм	406 х 450 Д х В, мм	560 х 500 Д х В, мм	560 х 600 Д х В, мм
	Предельное давление	10^-7 Па	10^-8 Па
Держатель подложки	Размер подложки	1" в диаметре	2" в диаметре	3" в диаметре	4" в диаметре
	Максимальная температура	1000°C (танталовый нагреватель) / 800°C (ламповый нагреватель)
	Ось X	-	±5мм
	Ось Y	-	±5мм
	Ось Z	±10мм
	Наклон	±2°	±3°
	Поворот в плоскости	360° (моторизированное)
Откачка системы	ТМН	345 л/с	1400 л/с
	Роторный насос	162 л/мин	345 л/мин
Камера загрузки образцов	Предельное давление	10^-4 Па		10^-5 Па
	Количество загружаемых подложек	2 шт.	2 шт.	2 шт.	4 шт.
	ТМН	55 л/с	55 л/с	345 л/с
	Роторный насос	90 л/мин	90 л/мин	162 л/мин
	Загрузка подложки	Загрузочный шток (магнитный или реечный тип подачи)
Система отжига	Температура нагрева	Макс. 200°C
	Нагреватель	Ламповый нагреватель или нагреватель обшивочного типа для камеры
Опции	Контроль системы осаждения	Ручной или автоматизированный
	Измеритель толщины	Встроенный сенсор или осциллятор
	Компоненты	RHEED, эффузионная ячейка, электронная пушка, др.

Системы молекулярно-лучевой эпитаксии с азотным охлаждением

Описание		EV-50	EV-100	EV-500
Ростовая камера	Размеры	406 х 450 Д х В, мм	560 х 500 Д х В, мм	560 х 600 Д х В, мм
	Предельное давление	10^-8 Па
Держатель подложки	Размер подложки	2" в диаметре	3" в диаметре	4" в диаметре
	Максимальная температура	1000°C (танталовый нагреватель) / 800°C (ламповый нагреватель)
	Ось X	±5мм
	Ось Y	±5мм
	Ось Z	±10мм
	Наклон	±3°
	Поворот в плоскости	360° (моторизированное)
Откачка системы	ТМН	1400 л/с
	Роторный насос	345 л/мин
Камера загрузки образцов	Предельное давление	10^-5 Па		10^-5 Па
	Количество загружаемых подложек	2 шт.	2 шт.	4 шт.
	ТМН	55 л/с	345 л/с
	Роторный насос	90 л/мин	162 л/мин
	Загрузка подложки	Загрузочный шток (магнитный или реечный тип подачи)
Система отжига	Температура нагрева	Макс. 200°C
	Нагреватель	Ламповый нагреватель или нагреватель обшивочного типа для камеры
Опции	Контроль системы осаждения	Ручной или автоматизированный
	Измеритель толщины	Встроенный сенсор или осциллятор
	Компоненты	RHEED, эффузионная ячейка, электронная пушка, др.